نشریه علم و مهندسی سرامیک
دوره 12، شماره 2 - ( 6-1402 )
جلد 12 شماره 2 صفحات 36-15 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
ramezani A H, sari A, kerazi R S. Layering methods and properties of Tantalum Nitride thin layers: A review. Iranian Journal of Ceramic Science & Engineering 2023; 12 (2) :15-36
URL: http://ijcse.ir/article-1-937-fa.html
URL: http://ijcse.ir/article-1-937-fa.html
رمضانی امیر هوشنگ، ساری امیر حسین، کریزی رشا سعد یوسف. مروری بر روش‌های لایه‌نشانی و خواص لایه‌های نازک نیترید تانتالوم. علم و مهندسی سرامیک. 1402; 12 (2) :15-36
1- گروه فیزیک ،واحد تهران غرب ، دانشگاه ازاد اسلامی ،تهران- ایران ، ramezani.wtiau1400@gmail.com
2- گروه فیزیک ،واحدعلوم و تحقیقات ،دانشگاه آزاد اسلامی ،تهران –ایران
3- گروه مهندسی مواد ،دانشکده مهندسی ، دانشگاه بصره ،بصره -عراق
2- گروه فیزیک ،واحدعلوم و تحقیقات ،دانشگاه آزاد اسلامی ،تهران –ایران
3- گروه مهندسی مواد ،دانشکده مهندسی ، دانشگاه بصره ،بصره -عراق
چکیده: (426 مشاهده)
نیترید تانتالوم (TaN) به دلیل خواص منحصر به فردی مانند سختی بالا و مقاومت بالا در برابر سایش و همچنین مقاومت الکتریکی پایدار، در صنایع مکانیکی و میکروالکترونیک به طور گسترده استفاده می‌شود. نظر به اهمیت موضوع، در مقاله حاضر، با در نظر گرفتن مراجع معتبر، بررسی جامعی از پیشرفت‌های تحقیقاتی در زمینه روش‌های لایه‌نشانی، روش‌های مشخصه‌یابی، خواص و کاربردهای لایه‌های نازک نیترید تانتالوم به عمل آمده است. به این منظور، ابتدا تولید و لایه‌نشانی این لایه‌های نازک توسط روش‌هایی مانند رسوب‌دهی فیزیکی (PVD)، کندوپاش مگنترون RF پالسی و فرکانس رادیوییDC مورد مطالعه قرار گرفته‌اند. همچنین در ادامه، خواص ساختاری، میکروسکوپی، الکتریکی، اپتیکی، مکانیکی و تریبولوژیکی لایه‌های نازک نیترید تانتالوم به طور جامع مورد بحث قرار گرفته‌اند. به این منظور از تحلیل الگوهای پراش پرتو ایکس، میکروسکوپ نیروی اتمی، میکروسکوپ الکترون روبشی، محاسبه نرخ سایش لایه‌ها، تاثیر تغییر محتوای نیتروژن ولتاژ بایاس بستر بر روی تنش پسماند لایه‌ها، تغییر سختی و مدول الاستیک لایه‌های نیترید تانتالوم با نسبت جریان نیتروژن، ضریب شکست و ضریب خاموشی لایه‌ها، طیف عبور اپتیکی لایه‌ها، مقاومت الکتریکی لایه در جریان نیتروژن مختلف، مقاومت سطحی نرمال شده برحسب دما و تغییرات مقاومت سطحی لایه‌های نگه داشته شده در دماهای مختلف به تفصیل مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج بررسی شده نشان می‌دهد که لایه‌های نازک تولید شده مذکور، پتانسیل بالایی برای کاربرد در زمینه‌های مختلف به‌خصوص در محیط‌های سخت با دما و فشار بالا دارند. این مقاله مروری، می‌تواند مرجعی مناسب و جامع برای پژوهش‌هایی باشد که در زمینه لایه‌های نازک نیترید تانتالوم و فناوری‌های مرتبط با آن انجام خواهد شد. این مطالعه بینش‌های ارزشمندی را در مورد بهینه‌سازی پارامترهای کندوپاش برای تولید لایه‌های نازک نیترید تانتالوم با کیفیت بالا بر روی بسترهای مسی ارائه می‌دهد. یافته‌ها نشان می‌دهد که دمای زیرلایه یک پارامتر حیاتی است که برای دست‌یابی به خواص ساختاری و مورفولوژیکی مطلوب لایه‌های نازک نیترید تانتالوم باید به دقت کنترل شود.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |